普发真空针对离子注入应用推出新型涡轮分子泵 HiPace 2800 IT

2020-11-20

  • 针对小分子气体实现极高抽速
  • 由于具有智能温度管理系统,能自适应工艺条件
  • 得益于可靠的复合轴承设计,购置成本极低

HiPace 2800 IT 是普发真空推出的一款离子注入应用专用涡轮分子泵。此款涡轮分子泵精巧的转子设计可实现极优异的小分子气体抽吸能力。这确保了针对离子注入工艺的极佳工艺适应性,此类工艺中极易积聚氢气。新型的 HiPace 2800 IT 具有 2,600 l/s 的氢气抽速,是同类涡轮分子泵产品中的佼佼者。

智能温度管理系统可防止泵系统内部的工艺冷凝和沉积。该系统允许单独设置温度,以理想支持工艺过程。转子的特殊涂层确保了针对所有离子注入工艺材料的坚固性。基于所谓的复合轴承,一种在前真空侧上的陶瓷球轴承和在高真空侧上的永磁径向轴承的组合,该系列 HiPace 涡轮分子泵拥有特别坚固的轴承设计。加上高效涂层,就为泵的长久寿命和最大限度正常运行时间奠定了基础。

普发真空 HiPace 2800 IT 涡轮分子泵
普发真空 HiPace 2800 IT 涡轮分子泵

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