AMPC-多端口监测环境质量

AMPC 是洁净室和设备前端模块 (EFEM) 监控的理想解决方案。

IC 晶圆厂中的空气分子污染物 (AMC) 被认为是导致良率损失的主要因素。为了控制和了解污染的来源，普发真空现为半导体市场带来了独特的解决方案，以监控洁净室以及 EFEM（设备前端模块）。

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单级旋片泵 HenaLine

适用于中低真空范围内所有应用的单级旋片泵系列产品

HenaLine 全系列油封式旋片泵，适用于工业应用、镀膜以及研发。内置油雾分离器，确保排气洁净且无油。HenaLine 真空泵的抽速可以达到 25 至 760 m³/h 之间。

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XN 系列 - 用于极端腐蚀性应用的多级罗茨泵

XN 系列 - 用于极端腐蚀性应用的多级罗茨泵

用于最腐蚀性工艺的最优解决方案

XN 系列干式流程泵可满足最具腐蚀性工艺的要求。XN 系列的泵速为 600 至 2,900 m³/h，可满足大多数耐腐蚀性关键应用的要求。这种创新技术可降低维护频率并延长泵送寿命。拥有成本大大降低，工具停机时间也大幅缩短。XN 系列泵可与其他系列泵完全兼容。

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ASM 306 S – 氦气和氢气吸枪检漏仪，可轻松准确地进行全时段吸枪操作

ASM 306 S – 氦气和氢气吸枪检漏仪，可轻松准确地进行全时段吸枪操作

氦气和氢气吸枪检漏仪，可轻松准确地进行全时吸枪操作

吸枪检漏仪 ASM 306 S 凭借吸枪测量法，可满足您在电动汽车和氢能源经济等新兴技术领域，或者制冷和空调等传统应用中的日常泄漏控制需求。ASM 306 S 可提供一项成熟技术的全部优势，无论是在灵敏度、准确性还是可重复性方面。其设计适用于进行快速且可重复的测量，无论示踪气体采用氦气还是氢气。该装置具备最高测试可靠性，可提高生产率和质量水平，以及在发生大规模泄漏时以最快速度恢复正常，使正常运行时间最大化。ASM 306 S 可搭配一个使用寿命为 2 年的校准漏孔，氦气型和/或氢气型均可提供。

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HiScroll - 涡旋泵

高安全性、低成本

HiScroll - 涡旋泵)打开视频

HiScroll 系列包括三款无油密封涡旋泵，额定抽速为 6 – 20 m3/h。该系列泵设备的特点是相对于大气压的高抽空能力。其高性能 IPM* 同步电机与传统驱动装置相比，效率优势最高可达 15%。

集成型双级气镇阀及止回阀确保了可专门配合各种工艺的安全运行。HiScroll 泵可通过 RS-485 或 ProfiNet 非常简便地与普发真空的其他产品相连，例如涡轮泵或显示和控制单元，以及上级外部控制器。通过接口可控制转速、实现基于情境的风扇控制功能以及监控泵性能。这有助于最大程度减少磨损和噪音排放，以及延长保养周期。

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GSD 350 气体分析仪 3D 模型

360º 全面解析普发真空解决方案

相关系列紧凑便携的台式设备，适用于在大气压下进行气体分析。它们特别用于化学工艺、半导体工业、冶金、发酵、催化、冷冻干燥和环境分析。

两款新型分析仪还具备检测极限低（取决于质量范围，最低可达 100 ppb）、气体消耗低（1 - 2 sccm）、测量时间快（最高 1 ms/u）的特点。

点击浏览我们的模型，了解有关我们便携式气体分析仪的更多信息。其中，您可以在 OmniStar 和 ThermoStar 两种设备之间选择。可以交互显示选项（腐蚀性气体和计量校准单位）。

3D 解析半导体工厂

360º 全面解析普发真空方案

一个典型的半导体车间分四层：在顶层的无尘室内有生产设备及污染管理专用设备。在无尘室下面 — 所谓的衬板上 — 是用来对闸门或转接室抽真空的干泵。再下面一层是设备的冷却机、电源和 RF 发生器。最底层装有干式泵和废气处理（减污）装置。

请您体验我们的半导体生产设备解决方案 — 360°全方位 3D 效果！请点击我们半导体车间模型的各层和组成部分，了解普发真空为不同需求所提供的产品！

分析设备个性化真空解决方案

普发真空解决方案 360º 全方位展示

分析设备市场涵盖分析法中需要用到真空的所有应用。

除了研发之外，还涉及诸如以下市场：

生产控制
环境分析
便携式质谱分析
安全检查

根据客户的特殊要求，普发真空可开发各种个性化客户解决方案。选择是多种多样的，此视图下只选取了我们的一小部分真空解决方案。

请体验为您设计的分析设备专用解决方案 — 360°全方位 3D 效果。

请点击我们模型的各层和组成部分，了解普发真空针对您的需求所提供的产品。

普发真空 GSD 350 气体分析仪

普发真空 GSD 350 气体分析仪

体验我们最新的 OmniStar 和 ThermoStar GSD 350

相关系列紧凑便携的台式设备，适用于在大气压下进行气体分析。它们特别用于化学工艺、半导体工业、冶金、发酵、催化、冷冻干燥和环境分析。

两款新型分析仪还具备检测极限低（取决于质量范围，最低 <100 ppb）、气体消耗低（1 - 2 sccm）、测量时间快（最高 1 ms/u）的特点。

旋片泵工艺优化

解决方案——以 Duo 65 为例

某些工艺气体和运行模式会对旋片泵造成严重负荷。采用辅助气体则可最佳地保护泵设备。其中，气镇和吹扫气体的组合只有普发真空独家提供。

气镇主要应用于干燥、冷冻干燥和蒸馏工艺。吹扫气体则首选适用于高负荷、腐蚀性应用及一切使用腐蚀性介质的工艺。

通过避免锈蚀，泵的认证使用寿命得以延长。延长换油周期同样降低了成本。

3D 演示 HiPace 涡轮泵工作原理

3D 演示 HiPace 涡轮泵工作原理

请观看涡轮泵内部结构

每分钟高达 90000 转，在外径上接近声速，真空条件高达 10 ^-11 mbar - 我们的涡轮泵以功能和可靠性取胜。请您在 3D 效果中跟随气体分子运动进入涡轮泵，了解普发真空 HiPace 工作原理和结构。

高性能HiLobe罗茨泵，采用3D设计

新的高性能罗茨泵3D HiLobe

这些创新的罗茨泵的标称抽速范围为520-2,100 m³ / h，可根据客户的具体要求进行完美调整。

3D 演示 OktaLine 罗茨活塞泵工作原理

3D 演示 OktaLine 罗茨活塞泵工作原理

了解普发真空 OktaLine

请观看普发真空罗茨活塞泵内部结构！在 3D 截面模型中了解泵的组件，并跟随气体分子运动进入 OktaLine。详细了解工作原理和罗茨活塞设计。

3D 解析普发真空 A4 系列多级罗茨泵

3D 解析普发真空 A4 系列多级罗茨泵

请您在 3D 效果中探索普发真空 A4 系列多级罗茨泵！

半导体工业的工艺不断为所使用的真空泵带来新挑战。A4 系列基于普发真空经实践验证的高能效多级罗茨泵。跟随泵内工作过程和分子运动！

3D 解析普发真空 ISO-KF 法兰系统

3D 解析普发真空 ISO-KF 法兰系统

普发真空 ISO-KF 法兰系统的生产符合 DIN 28403 和 ISO 2861 标准。

请您在三维效果中了解普发真空 ISO-KF 法兰系统的设计、组件及工作原理！

3D 解析普发真空 MVP 隔膜泵

3D 解析普发真空 MVP 隔膜泵

紧凑的设计、便捷集成于现有系统 — 普发真空的隔膜泵以占地空间小取胜。请您在 3D 效果中探索泵的内部，详细认识它们的组件并了解其工作模式！

3D 解析 DuoLine 叶轮式旋转泵

3D 解析 DuoLine 叶轮式旋转泵

请观看普发真空 DuoLine 内部结构！

轻巧、紧凑、功能强大 — 普发真空 DuoLine 叶轮式旋转泵是市场上同等抽吸能力等级中最小巧的。请您了解泵的设计并在 3D 效果中跟随分子运动！

ISO-K 和 ISO-F 法兰系统 3D 模型

ISO-K 和 ISO-F 法兰系统 3D 模型

在 3D 环境下体验普发真空 ISO-K 和 ISO-F 法兰系统的设计、各个部件和工作原理！

PrismaPro 四级杆质谱分析仪工作原理 3D 模型

PrismaPro 四级杆质谱分析仪工作原理 3D 模型

体验普发真空 PrismaPro 四级杆质谱分析仪及 Faraday 和 C-SEM 检测仪的功能和设计。借助 PrismaPro 分析仪跟踪分子，了解如何在高真空环境下进行残留气体分析！

ASM 390 和 ASM 392 检漏仪 3D 模型

ASM 390 和 ASM 392 检漏仪 3D 模型

抽吸时间短、灵敏度高、结果准确、检测时间极短：ASM 390 和 ASM 392 是针对半导体和显示器行业及其他苛刻应用的最佳检漏仪。

一台无油非接触式前级泵、一台高性能高真空泵——相关系列检漏仪适用于在洁净环境下对一切类型的零部件进行泄漏检测。

使用 ASM 392 进一步加快您的泄漏检测流程——该检漏仪额外配备一台涡轮分子泵！

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